ERUN-PG71S4-M4便攜泵吸式乙烷檢測報(bào)警儀適用于裂解制造乙烯或作為制冷劑使用以及其他所有使用或產(chǎn)生乙烷的工況場所，便攜式乙烷泄漏檢測儀能夠便攜手持方便快速移動檢測環(huán)境

ERUN-PG71S6-TVOC便攜泵吸式TVOC氣體檢測報(bào)警儀適用于適用于清潔溶劑、膠黏劑、涂料、油漆、膠水、有機(jī)溶劑、油墨等生產(chǎn)及使用過程中總揮發(fā)性有機(jī)物TVOC的檢測，便攜式總揮發(fā)

ERUN-PG51KF固定在線式氟化鉀氣體檢測報(bào)警儀適用于分析試劑、絡(luò)合物形成劑、玻璃雕刻、食物防腐、殺蟲劑等工況場所中現(xiàn)場環(huán)境空氣中氟化鉀KF蒸汽濃度的檢測，在線式氟化鉀蒸

ERUN-PG71S6-35L便攜泵吸式氯丙烯氣體檢測報(bào)警儀適用于甘油、丙烯醇、醫(yī)藥、涂料、丙烯磺酸鈉、環(huán)氧氯丙烷、氯丙醇、農(nóng)藥殺蟲雙、樹脂、粘合劑、潤滑劑等所有生產(chǎn)過程中使

ERUN-PG51L4X4固定在線式四氯乙烯氣體檢測報(bào)警儀適用于有機(jī)溶劑、干洗劑、干燥劑、脫漆劑、驅(qū)蟲劑、脂肪類萃取劑以及有機(jī)合成等使用四氯乙烯作為原料的生產(chǎn)場所以及存放全

ERUN-PG71S4-MEK便攜式丁酮?dú)怏w檢測報(bào)警儀適用于醫(yī)藥、染料、洗滌劑、香料、抗氧化劑、染料的粘結(jié)劑、潤滑油脫蠟劑、硫化促進(jìn)劑、有機(jī)物溶劑等生產(chǎn)過程中2-丁酮?dú)怏w的濃度

ERUN-PG51R1234ze固定在線式四氟丙烯R1234ze檢測報(bào)警儀適用于化工材料中間體、發(fā)泡劑、（高溫?zé)岜谩⒗渌畽C(jī)組等）制冷劑、氣溶膠推進(jìn)劑、清洗劑、拋射劑冷媒等工況環(huán)境中1,3,3,3

ERUN-PG51NF3固定在線式三氟化氮檢測報(bào)警儀適用于半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、光纖、光伏電池等使用三氟化氮NF3作為等離子蝕刻氣體和反應(yīng)腔清洗劑的工況場所，固定式三氟化氮泄

ERUN-PG71S6-R22便攜泵吸式HCFC-22二氟氯甲烷檢測報(bào)警儀適用于農(nóng)藥、噴霧劑、制冷劑、四氟乙烯等工況環(huán)境中二氟一氯甲烷CHCLF2氣體濃度的檢測，手持式二氟一氯甲烷R22泄漏濃

ERUN-PG71S6-NH2便攜泵吸式肼（聯(lián)氨）氣體檢測報(bào)警儀適用于航天、軍工、航空等領(lǐng)域使用肼N2H4作為火箭燃料以及生產(chǎn)發(fā)泡劑、抗氧劑、顯影劑和制藥的工況場所，便攜式無水肼氣體泄

ERUN-PG51ACN固定在線式乙腈氣體檢測報(bào)警儀適用于原乙酸酯、溶劑、合成醫(yī)藥與農(nóng)藥的中間體、半導(dǎo)體清洗劑、有機(jī)合成原料及催化劑等工況場所中乙腈ACN蒸汽濃度的檢測，在線式

ERUN-PG51SDES固定在線式硫酸二乙酯氣體檢測報(bào)警儀適用于染料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、季銨鹽、脫水劑、揮發(fā)油抽提劑、乙基化劑、精細(xì)化工等使用二乙基硫酸C4H10O4S作為原料的生產(chǎn)儲

ERUN-PG51FX3固定在線式丙烯腈氣體檢測報(bào)警儀適用于聚丙烯腈、丁腈橡膠、染料、合成樹脂、醫(yī)藥等使用丙烯腈C3H3N作為原料的生產(chǎn)場所以及存放丙烯腈的庫房，固定式丙烯腈氣體

ERUN-PG71S5-R132A便攜泵吸式1,1-二氯-2,2-二氟乙烷HCFC-132a氣體檢測報(bào)警儀適用于中央空調(diào)、冷庫、冷凍冷凝機(jī)組、制冷機(jī)房、除濕機(jī)、商業(yè)制冷等制冷設(shè)備揮發(fā)泄漏積聚到現(xiàn)

ERUN-PG51SA4帶攝像頭有限空間四合一氣體檢測報(bào)警儀器適用于受限空間作業(yè)過程中對一氧化碳CO、氧氣O2、硫化氫H2S和可燃?xì)怏wEX連續(xù)在線移動監(jiān)測并實(shí)時(shí)視頻拍攝的工況場所，有

ERUN-PG71S5-BCS便攜泵吸式乙二醇單丁醚氣體檢測報(bào)警儀適用于膠黏劑、金屬洗滌劑、纖維潤濕劑、藥物萃取劑、有機(jī)合成中間體、溶劑、非活性稀釋劑、脫漆劑、農(nóng)藥分散劑和樹

ERUN-PG71S6-HEMA便攜泵吸式甲基丙烯酸羥乙酯氣體檢測報(bào)警儀適用于樹脂、涂料、溶劑型或乳液型丙烯酸酯膠黏劑的交聯(lián)單體等生產(chǎn)儲運(yùn)過程中甲基丙烯酸-2-羥乙酯C6H10O3蒸汽濃

ERUN-PG51SAX3固定在線式砷化氫檢測報(bào)警儀適用于硅中N型擴(kuò)散、生長砷化鎵GaAs、外延硅的N型摻雜、離子注入、磷砷化鎵GaAsP等半導(dǎo)體及有機(jī)砷化物合成過程中砷化氫AsH3濃度的